Trump mueve ficha otra vez en el único sector que no controla: el de los escáneres litográficos con tecnología EUV. Por ello, EE.UU. ha puesto 150 millones de dólares sobre la mesa para empujar a xLight, una compañía que quiere desarrollar una fuente de luz EUV basada en láser de electrones libres y que apunta directamente a una de las piezas más delicadas de la litografía avanzada, lógicamente, para competir contra Europa y ASML.
El foco no está en copiar mañana un escáner completo de ASML, sino en presionar el componente que marca buena parte del rendimiento industrial: la fuente de luz que permite exponer obleas en nodos avanzados, porque ahí Trump sabe que Europa es totalmente dependiente.
EE.UU. meterá 150 millones en xLight para lograr su propio EUV en una fase 2 que promete competir contra ASML y Europa
La situación tiene un contexto bastante complejo por todo lo que hemos hablado de xLight, ya que los procesos de fabricación más avanzados dependen cada vez más de la litografía EUV, pero la única empresa capaz de producir máquinas EUV en volumen es ASML desde Países Bajos. A modo de contexto, solo decir que EE.UU. no cuenta con una alternativa propia equivalente, por eso está metiendo dinero público en startups relacionadas con esta tecnología.
En ese grupo aparece xLight, dirigida curiosamente, por Pat Gelsinger, exCEO de Intel y muy conocido por aquí, donde al salir de los azules por la puerta de atrás, resulta que solo fue una excusa para liderar este proyecto aprovechando su conocimiento.
Tanto es así, que la compañía trabaja en una fuente EUV basada en FEL (free electron laser), una tecnología distinta a la fuente LPP que utiliza ASML, donde la tecnología europea usa un láser que impacta sobre gotas de estaño para generar la luz extrema ultravioleta tan famosa. Por ello, la promesa de xLight está en la potencia, donde la información filtrada habla de 1000W frente a unos 250W en las fuentes EUV actuales de ASML, una diferencia de 4 veces que revolucionaría la fabricación de chips a un nivel sin precedentes.
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El calendario tampoco apunta a una llegada inmediata, ya que el prototipo de xLight estaría previsto para 2028, así que hablamos de una tecnología en desarrollo, no de un sistema ya listo para entrar en producción masiva.
Aun así, el movimiento importa porque la fuente de luz es una de las partes críticas de un escáner EUV. Cuanta más potencia tenga esa fuente, mayor puede ser la eficiencia de fabricación, más obleas se pueden procesar y más capacidad puede extraerse de unas herramientas que ya son extremadamente caras.
La financiación es otro punto relevante, y más en estos tiempos. xLight ya habría recibido 200 millones de dólares en inversión, de los cuales 150 millones procederían del Gobierno de EE.UU. bajo el marco de la CHIPS Act.
Además, la compañía estaría negociando una nueva ronda de 350 millones de dólares, con Boardman Bay Capital Management y Bain Capital como posibles líderes, mientras intenta atraer también a ASML, TSMC, Intel y Micron. Sí, intenta ser proveedor de su rival, así de confiados están los estadounidenses.
ASML tampoco está quieta, y solo a modo de contexto frente a lo que vimos hace meses hay que recordar que la compañía neerlandesa ya ha hablado de fuentes de 600W y que su objetivo futuro también pasa por alcanzar los 1000W. xLight, por su parte, mete en su hoja de ruta fuentes de 2000W, aunque eso exigiría más tiempo, el caso es “tenerla más grande”, al parecer. La presión, por tanto, no llega por un escáner comercial que está listo para sustituir a ASML, sino por una pieza concreta que EE.UU. quiere controlar mucho mejor para no depender de la única empresa que los fabrica, y en cambio, crear una fuente de luz que puedan usar, para luego, seguramente, crear sus propios escáneres.
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